फोटोवोल्टिक निर्माण में, वेफर सफाई का बाद की कोटिंग और विद्युत प्रदर्शन पर सीधा प्रभाव पड़ता है। पारंपरिक आर्किटेक्चर जो मुख्य रूप से स्थानीय I/O पर आधारित हैं, अक्सर संघर्ष करते हैं जब अधिक निगरानी बिंदुओं, दूरस्थ निदान या प्रक्रिया अनुकूलन की आवश्यकता होती है।

एक परियोजना में, एक वेफर सफाई प्रणाली ने ओम्रॉन पीएलसी प्लस आरबी रिमोट I/O समाधान अपनाया। 3×RB-1110, 3×16DI, 3×16DO, 1×AI और 1×AO का विन्यास मशीन की स्थिति, पानी के दबाव और रासायनिक सांद्रता की केंद्रीकृत निगरानी और नियंत्रण को सक्षम बनाता है।

डिजिटल इनपुट और आउटपुट ड्राइव, सुरक्षा द्वार, स्तर और अलार्म को ट्रैक करते हैं। एनालॉग चैनल दबाव, प्रवाह या सांद्रता संकेतों को पढ़ते हैं, जबकि एनालॉग आउटपुट सफाई प्रक्रिया को एक परिभाषित ऑपरेटिंग विंडो के भीतर रखने के लिए वाल्व और पंप को नियंत्रित करते हैं।

आरबी रिमोट I/O के साथ, उपकरण निर्माता कर सकता है:

• मशीन के चारों ओर बिखरे हुए सेंसर और एक्चुएटर को एकीकृत रिमोट स्टेशनों में समेकित करें;

• बिना किसी बड़े रीवायरिंग के भविष्य की निगरानी बिंदुओं या नुस्खा अनुकूलन के लिए I/O क्षमता आरक्षित करें;

• सफाई की स्थिरता में सुधार करते हुए, प्रवृत्ति विश्लेषण और मूल-कारण जांच के लिए डेटा को उच्च-स्तरीय सिस्टम में फीड करें।

यह पीवी निर्माताओं को अपने मुख्य पीएलसी प्लेटफॉर्म को बदले बिना अपने वेफर सफाई अनुभागों को अधिक डेटा-संचालित मोड में अपग्रेड करने की अनुमति देता है।